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首页|WS1000湿法刻蚀机,Cargille光学凝胶,EDC-650显影机-迈可诺技术有限公司 欢迎来到迈可诺技术有限公司网站！ 返回首页在线留言联系我们 咨询热线 18971121198 网站首页 关于我们 产品中心 湿法刻蚀显影清洗系统 匀胶机/匀胶旋涂仪 狭缝涂布仪 掩膜曝光光刻机 纳米压印光刻机 快速退火炉 烤胶机/热板 紫外臭氧清洗机 紫外固化机/紫外固化箱 等离子去胶机 超声波清洗机 等离子清洗机 原子层沉积系统 光学膜厚仪 探针台 压片机/液压机 制样机 接触角测角仪 手持式表面分析仪 干冰清洗机 注射泵 显微镜检测系统 程序剪切仪 环氧树脂 韩国波导树脂 光学试剂 钙钛矿材料 光刻胶 碳纸碳布 防潮箱 马弗炉 培养箱 蠕动泵 热循环仪 离心机 手套箱 天平 键合机 紫外交联仪 膜厚监测仪 离子溅射仪 搅拌脱泡机 椭偏仪 自动涂膜器 分光光度计 点胶机 喷涂机 晶圆片 密度测试仪 临界点干燥仪 光谱仪 太阳光模拟器 干燥机 Norland胶水 真空回流焊炉 过滤器 切割机 电镜耗材 Alconox清洁剂 有机光伏材料 钙钛矿界面材料 Rondol挤压机 切割设备 超声波细胞粉碎机 低温水循环 水浴油浴 蒸发器 冻干机 剥离器 紫外掩膜曝光系统 涂布机 恒电位仪 源测量单元 太阳能电池IV测试系统 太阳模拟器 LED测量系统 显微镜 干燥箱 霍尔效应测试仪 芯片热管理分析系统 灭菌锅 镀膜设备 耗材 压实模具 新闻中心 技术文章 在线留言 联系我们 热门关键词：匀胶机，光刻机，显影机，等离子清洗机，紫外臭氧清洗机，紫外固化箱，压片机，等离子去胶机，刻蚀机，加热板 产品分类 湿法刻蚀显影清洗系统 显影机 半自动旋涂显影刻蚀机 EDC系列 WS1000系列 Ultra T 匀胶机/匀胶旋涂仪 ST20系列 M6系列 650系列 SPIN系列 KW系列 狭缝涂布仪 掩膜曝光光刻机 Mask Aligner光刻机 Mask Aligner系列 NXQ系列 纳米压印光刻机 NIL系列 快速退火炉 国产 AS系列 SSI系列 烤胶机/热板 德国Harry M-HP UNIXX系列 AS系列加热板 EHP系列加热板 SPS系列加热板 紫外臭氧清洗机 PSD系列 UVO系列 Jelight系列 紫外固化机/紫外固化箱 UV-210系列 ELC系列 Intelli-Ray系列 ECE系列 等离子去胶机 PIE等离子去胶机 超声波清洗机 超声波清洗器（单频） 超声波清洗机配套干燥设备 等离子清洗机 大气常压等离子清洗系统 HPC小型射频等离子清洗机 PIE小型等离子清洗机 PPC微波等离子清洗机 PE等离子表面处理清洗机 STAR系列等离子清洗机 Anatech等离子刻蚀机 SCE射频等离子清洗系统 原子层沉积系统 Plasmionique 光学膜厚仪 探针台 Micromanipulator-探针台 MicroXact探针台 四点探针系统 低温探针台 压片机/液压机 等静压机 标准型实验室压片机 加热型手动压片机 自动台式实验室压片机 压实密度仪 实验室电动压片机 层压机 Dake手压机 Dake压片机 WABASH平板硫化机 制样机 气动制样机 仿形制样机 射模制样机 缺口制样机 接触角测角仪 手持式表面分析仪 干冰清洗机 注射泵 显微镜检测系统 Omni系列 Inspex系列 ion系列 程序剪切仪 裁切机 剪切仪 层压仪 切膜机 环氧树脂 韩国波导树脂 光学试剂 美国Cargille光学试剂 美国Cargille光学浸入液 美国Cargille激光液 美国Cargille封片剂 美国Cargille硼酸片 美国Cargille显微镜浸油/香柏油 美国Cargille光学试剂/光纤匹配膏 美国Cargille折射率匹配液 Naphrax 硅藻胶 钙钛矿材料 钙钛矿前体材料 钙钛矿前体油墨 空穴传输材料&掺杂物 密封剂 添加剂材料/改性剂材料 玻璃基板 电解质/电解液 染料&光敏剂 配体材料&中间分子材料 二氧化钛膏&铂膏 光刻胶 正性光刻胶 SU-8胶 显影液 Futurrex光刻胶 纳米光刻压印胶 碳纸碳布 碳纸 防潮箱 马弗炉 培养箱 蠕动泵 热循环仪 离心机 高速冷冻离心机 手套箱 天平 键合机 JFP引线键合机 紫外交联仪 UVP紫外交联仪 膜厚监测仪 离子溅射仪 搅拌脱泡机 椭偏仪 自动涂膜器 分光光度计 红外光谱仪 点胶机 喷涂机 晶圆片 密度测试仪 临界点干燥仪 光谱仪 太阳光模拟器 干燥机 旋转冲洗干燥机 Norland胶水 光学胶 真空回流焊炉 过滤器 切割机 晶圆切割机 电镜耗材 Alconox清洁剂 有机光伏材料 钙钛矿界面材料 Rondol挤压机 切割设备 切条机 模具矩阵扩展器 晶圆清洗机 晶圆贴片机 超声波细胞粉碎机 SCIENTZ-IID 低温水循环 水浴油浴 蒸发器 冻干机 箱式冻干机 SCIENTZ-50F 中试型硅油原位冻干机 剥离器 超声波二维材料剥离器 紫外掩膜曝光系统 UV-KUB 3 UV-KUB2 涂布机 薄膜涂布机 恒电位仪 源测量单元 太阳能电池IV测试系统 太阳模拟器 LED测量系统 显微镜 干燥箱 霍尔效应测试仪 芯片热管理分析系统 灭菌锅 镀膜设备 耗材 PGMEA TMAH PMMA PDMS 硅片 压实模具 产品展示PRODUCT DISPLAY更多>> PlasmaStar 200/200 RIE等离子刻蚀机 PlasmaStar 100/100 RIE反应离子刻蚀机PlasmaStar 100 WS-650Mz-23NLaurell-650钙钛矿太阳能电池匀胶机 POLOS450SPIN匀胶机POLOS 显微镜浸油300型 4350.LCarver红外压实密度仪 R32实验室真空热压机 高真空温控 陶瓷/粉末 3619Carver压实密度仪模具13mm 粉末密度磨具 FRTP-1200V12英寸带真空退火炉 RTP600V国产立式快速退火炉 6寸真空 COMEF线宽测量 去胶测量EBR测量系统 SU-8负性光刻胶 SN-10氨基磺酸镍电镀液 WATTS NICKEL瓦茨镍电镀液 COPPER PLATING ACID TYPE酸性镀铜液 TRANSENE 100%纯锡电镀溶液 SILVER银电镀溶液 TSG-250亚硫酸金电镀溶液 负胶显影液PGMEA（丙二醇甲醚醋酸酯） 238正胶显影液TMAH 四甲基氢氧化铵 200KPMMA 聚甲基丙烯酸甲酯 184PDMS预聚物聚二甲硅氧烷与固化剂套件 S111ITO玻璃基板（无图案） 晶圆片 SPR955-CM光刻胶SPR955 AZ1500（90cp）AZ1500系列G线光刻胶 AZ1500（38cp）AZ1500系列G线光刻胶 AZ1500（20cp）AZ1500系列G线光刻胶 AZ1500（4.4cp）AZ1500系列i线光刻胶 s1800shipley s1813光刻胶 硅片、单晶硅 Elcocarb B/DCSOLARONIX钙钛矿导电碳层浆料 B/DC Elcocarb B-L/SPSOLARONIX钙钛矿导电碳层浆料 B-L/SP Elcocarb B/SPSOLARONIX钙钛矿导电碳层浆料 B/SP Zr-Nanoxide ZT/SPSOLARONIX钙钛矿绝缘层浆料ZT/SP Zr-Nanoxide ZT/DCSOLARONIX钙钛矿绝缘层浆料ZT/DC Spiro-OMeTADSOLARONIX钙钛矿空穴传输层 Methylammonium IodideSOLARONIX钙钛矿前驱体 mr-NIL212FC-100nm纳米压印光刻胶 mr-NIL212FC 系列 mr-NIL212FC德国纳米压印光刻胶 ET500 ET505 ET510双组份环氧树脂胶粘剂 ES550 ES558 ES562单组分环氧树脂胶粘剂 EtchantsTransene二氧化硅 (SiO₂) 蚀刻液 光刻胶 TransistKemLab光刻胶 mr-NIL200-100nm纳米压印光刻胶 mr-NIL200 系列 公司简介·COMPANY PROFILE用心做产品，满意在服务，与客户共创长期价值 迈可诺技术有限公司 半导体化工领域专业实验设备供应商：迈可诺是一家富有创新精神的高科技公司，专业提供光电半导体化工实验室所需设备耗材的全套解决方案提供商，迈可诺从事开发、设计、生产并营销质量可靠的、安全易用的技术产品及优质专业的服务，帮助我们的客户和合作伙伴取得成功。我们成功的基础是帮助客户做出更好的选择和决定，尊重他们的决定，并协助他们实现高效率的科研成果，追求丰富有意义的生活。 了解更多 成功案例·SUCCESSFUL CASE用心做产品，满意在服务，与客户共创长期价值 江苏某医疗设备公司双工位湿站、匀胶机和湿法显影设备顺利验收 上海复旦大学光刻机维护 武汉理工大学等离子清洗机安装调试 技术文章·TECHNICAL ARTICLES用心做产品，满意在服务，与客户共创长期价值 20268-18 NXQ8000系列掩膜曝光机的技术架构及功能特性 NXQ8000系列掩膜曝光机致力于为光刻工艺提供可靠的曝光解决方案，助力客户在微纳制造领域实现更高的产良率与更短的交付周期。坚持精密对准、稳定输出与易用操作三大原则，通过模块化设计实现快速升级与灵活配置。NXQ8000系列掩膜曝光机的技术架构：1.光源系统：采用长寿命、低漂移的光源模块，确保曝光能量在不同工艺窗口内保持均匀。2.投影光路：采用高透射率光学元件与精密调节机构，实现光束的均匀分布与畸变控制。3.对准与对焦机制：结合非接触式测量与闭环反馈，实现wafer与掩膜的微米... 20267-14 WS1000湿法刻蚀机可适用于掺杂硅、磷化铟等材料的表面处理 WS1000湿法刻蚀机是一款专门用于半导体、MEMS及光电子领域的表面处理设备。实现均匀可控的化学刻蚀，适用于多种薄膜材料的去除或图形化加工。兼顾高效率与良好重复性，满足中小批量生产及研发实验的需求。WS1000湿法刻蚀机的结构组成：1.主体框架：采用刚性金属骨架，内部布局紧凑，便于维护通道的预留。2.喷淋系统：包括喷嘴阵列、流体分配管路及循环泵，确保刻蚀液在工件表面形成均匀薄膜。3.控制系统：集成触摸式人机界面与可编程逻辑控制器，支持多步骤程序编辑与实时监控。4.安全防护：... 20266-30 碳纸不止燃料电池！车载、固定式发电、电解水制氢，不同场景碳纸需求差异 碳纸不止燃料电池！车载、固定式发电、电解水制氢，不同场景碳纸需求差异碳纸（气体扩散层GDL）是电化学通用材料，核心两大赛道：PEM氢燃料电池、PEM电解水制氢，不同工况对碳纸性能要求天差地别，结合AvCarb、科德宝产品手册拆解：一、氢燃料电池场景1.轻型乘用车（水冷）需求：薄型碳纸（180–200μm）、低面电阻、中等透气性，平衡高低湿；主流：东丽TGP-H-060、科德宝H15C系列。2.重卡/巴士商用车需求：强抗压缩、低塑性形变、上万次启停循环耐久；科德宝H15C15为... 20266-18 ma-N 2400 & mr-EBL 6000：重新定义微纳加工的“负胶”精度极限 在微纳加工领域，选择一款分辨率高、工艺宽容度大且耐刻蚀的光刻胶至关重要。microresisttechnologyGmbH推出的ma-N2400与mr-EBL6000两大负性光刻胶系列，为您的电子束曝光及深紫外光刻工艺提供优质解决方案。ma-N2400系列：经典可靠，双敏感型类型：负性光刻胶，同时对电子束和深紫外（DUV）敏感。分辨率：电子束曝光下可实现（注：资料中展示了50nm线宽/80nm点阵）高分辨率图形。显影友好：采用TMAH或NaOH碱性水溶液显影，避免有机溶剂溶胀... 20265-15 激活PMMA微流控的第一步，也是科研成功的关键一步 在微流控芯片实验室中，聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA，俗称有机玻璃）凭借其优异的光学透明性、加工便利性和生物相容性，已成为微流控器件最常见的材料之一。然而，PMMA天生疏水的特性（未处理表面水接触角约78°）使其在面对微流控应用中的键合密封、毛细泵送和生物功能化等关键需求时，往往显得“不太配合”——这就像一张洁白的画纸，光滑却难以着色。那到底应如何以高效、无损、绿色的方式，破解PMMA的“先天惰性”，为微流控应用铺平道路？答案在于等离子体处理——它已成为微流控技术中PMMA工作的... 20265-14 突破GFRP粘接瓶颈-Harrick等离子清洗机 在轻量化浪潮席卷航空航天、风电能源与汽车工业的今天，玻璃纤维增强聚合物（GFRP，GlassFiberReinforcedPolymers）凭借其出色的高比强度与可调节的机械性能，已成为制造业的“宠儿”。从百米长的风电叶片，到复杂的飞机内部构件，再到新能源汽车的结构件，GFRP的应用无处不在。然而，一个长期困扰工程界的问题始终悬而未决：为什么GFRP材料，在实际应用中却频频遭遇涂层脱落、界面分层和胶接失效的痛点？等离子体处理的作用等离子体处理是一种多功能且环保的技术，用于在不... 友情链接 / LINKS 核辐射报警器 常州减速机 液氮深冷箱 深冷处理 武汉纯水设备 耐酸泵 炒货机械设备 高速均质机 迈可诺技术有限公司 联系人：邓经理 地址：洪山区珞狮南路147号未来城A栋 邮箱：sales@mycroinc.com 传真： 快速链接 首页 关于我们 产品中心 新闻动态 技术文章 荣誉资质 在线留言 联系我们 关注我们 欢迎您关注我们的微信公众号了解更多信息 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