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Vision China 2026(上海)机器视觉展盛大开幕! 2026年3月25日至27日,全球机器视觉行业的目光齐聚Vision China 2026(上海)机器视觉展。本届展会由机器视觉产业联盟(CMVU)主办,慕尼黑展览(上海)有限公司承办,展出规模近3万平方米,吸引了来自13个国家和地区的近300家企业参展 。 2026-03-25 CMVU重磅揭晓“2025机器视觉创新产品TOP10”企业名单 由机器视觉产业联盟(CMVU)发起的“2025机器视觉创新产品TOP10”评选活动,围绕光源、镜头、相机、3D智能相机、视觉系统与装备、软件平台及工业视觉AI等领域,从专业性、原创性、创新性等多个维度综合遴选。经权威专家初审与终审严格评审,最终揭晓年度最具代表性的创新产品,并在研讨会期间举行颁奖仪式。 2026-03-25 应用案例 系统产品 友思特应用 | 硅片上的光影贴合:UV-LED曝光系统在晶圆边缘曝光中的高效应用 晶圆边缘曝光及处理方法晶圆曝光和光刻工艺是半导体电子器件制程中尤为重要的一个工艺步骤,影响了最终电子元器件的良品率和精确度。晶圆曝光的原理类似于“洗照片”,是将对光敏感的光刻胶均匀涂敷在硅片上,利用紫外光源发出的光线经特殊聚焦透镜通过掩模版,聚焦到晶圆表面,光刻胶遇光固化,在晶圆表面形成和掩模版一致的像,再去除掉多余的胶体,晶圆上便会留下所需要的图形结构,即经典的涂布、曝光、显影和刻蚀工艺流程。在光刻胶涂布的过程中,由于离心作用的存在,一部分胶会被推到晶圆的边缘,形成较厚的边缘,这部分胶容易从旁晶圆边缘剥落,影响晶圆表面和内部的图形,造成颗粒污染。在表面张力的作用下,少量的胶甚至可能沿着边缘流到晶圆背面,对晶圆背面造成污染。即使采用十分谨慎的加工过程,仍然无法避免晶圆边缘的光刻胶堆积,如图1所示。图1. 多余的胶在晶圆边缘堆积/流到晶圆背面为了去除边缘堆积的光刻胶,需要使用到晶圆边缘处理流程。一种方法是化学去边(Chemical EBR),晶圆通过真空吸附在承载台上并进行旋转涂胶,用化学去边溶剂,喷洒少量在正反边缘处进行冲洗。缺点是去边时间长、溶剂耗材成本高、有残留区域很难洗干净,去除区域的轮廓不平滑齐整。另一种方法为即硅片边缘曝光(Wafer Edge Exposure, WEE)。边缘曝光单元主要由晶圆承载台、预对准系统、光源(有遮光板)、光强计构成,如图2所示。晶圆真空吸附在承载台上,先由预对准系统找到曝光起始位置,再由光源经过遮光板形成的光斑照射在晶圆边缘,通过承载台的旋转及系统的计算控制,来实现可控宽度、位置的边缘曝光。WEE方法的优点在于生产效率高、装置成本低、过程易控制、边缘轮廓整齐,缺点是因光的散射会导致轮廓存在较大的 slope。图2. 边缘曝光装置结构示意图WEE 工具对于精准的晶圆工艺流程是必须的。当采用正性光刻胶时,WEE 工具主要用于允许边缘处的绝对最小曝光宽度,以最大限度地减少边缘处的良率损失。WEE 不仅可以提高产量,还可以最大限度地减少电镀接触区域的贵金属的浪费。当采用负性抗蚀剂时,WEE 工具用于提供一种保护或密封晶圆边缘的方法,以防止污染物到达WEE曝光路径边界内的器件。友思特 WEE 曝光光源系统WEE 硬件通常由扫描仪、旋转设备和高性能点光源组成,该光源具有用于晶圆边缘曝光的光学元件。友思特 ALE/1 和 ALE/3 UV-LED 光源正好适合这些设置:它们是唯一可用于宽带晶圆边缘曝光的 i、h 和 g 线的 LED 解决方案。环保型 UV-LED 光源 ALE/1 和 ALE/3 可以精确控制,以确保最佳曝光效果。此外,它们还提高了系统在日常运行中的效率:一方面,UV-LED 的使用寿命更长,意味着系统的停机时间更短。另一方面,光源的可更换 LED 模块可在现场快速轻松地进行维护。图3. 使用 ALE/1 光源进行WEE工艺友思特 UV-LED 光源具有与汞蒸气灯非常相似的光谱功率,特别适合在现有的 WEE 工艺中替代传统汞灯技术。宽带 UV-LED 光源和解决方案与传统汞蒸气灯的比较显示出出色的光谱一致性,同时具有显著的性能优势。使用友思特 UV-LED 成像系统,客户可以完全控制:单独配置和控制i、h和g线(中心波长 365、405和436nm 周围的光谱范围),或将它们一起使用以获得最佳性能。曝光过程非常精确,切换时间不到 1ms,并且可以长期保持稳定。图4. ALE/1、ALE/3光源与汞灯的功率对比紫外光源改造兼容方案针对TEL ACT8/12光源的替换,友思特紫外光源提供以下优化方案:图5. TEL ACT8 设备光源部分(图中位置2)拆除原有汞灯灯箱,保留连接曝光光学组件的光纤,通过专用适配器直接对接友思特光源,即插即用。通信部分(图中位置1)增加通信转换器,将原设备用于控制光圈开关的信号,转换为友思特光源的开关控制信号,实现无缝兼容。核心优势在70%的输出功率下,ALE/3.1 WEE的强度比HOYA-SCHOTT UL200-T1放电灯高出72%。 在365nm(±15nm)的相关波长范围内,这一优势更为显著:在此波段,ALE/3.1 WEE的输出功率可达原放电灯的3倍以上。 更高功率意味着更长的使用寿命和/或更高的产量。此外,通过切换至 ALE/3,您将体验到前所未有的工艺稳定性,并能全面掌控您的生产过程。图6. 友思特紫外光源与TEL内置WEE光源输出功率比较WEE系统设计参数边缘锐度指强度从0到100%或从100%到0的梯度/边缘的宽度,单位:mm。实际曝光过程中不存在0%和100%的均匀度,所以实际上边缘锐度指的是:若均匀性为90%,边缘锐度为强度从0到90%的边缘宽度。如图7所示,边缘锐度大约是 5mm。图7. 边缘锐度与均匀性示例均匀性从中心到边缘不同位置的曝光强度的差异,单位: %。曝光面积曝光晶圆边缘的宽度以及单次曝光的面积大小,单位: mm*mm。焦距深度单位: mm。晶圆被固定时不会直线移动,但会上下摆动并产生微小的数值位移,这是不可避免的,因为晶圆既不能是100%的平面,也不能是100%精确的机械零件。图8. 焦距深度示例曝光强度被曝光区域上的曝光功率与曝光面的比值,单位: mW/cm² 或W/cm²。设备空间指设备中需要集成光源的可用空间,以及放置在设备内部的位置和方式以上这些参数并非独立的性质,而是互相影响着最终的曝光结果,其关系如图9所示。图9. 参数关系图示例 换型更柔性 发布即交付|贝特威3D视觉引导系统助力主机厂提质增效 系统产品 嵌入式视觉系统:Jetson Orin + GMSL2 的高可靠工业组合 系统产品 糊盒机计数不准?堡盟SCATEC拷贝计数器,高速精准破局! 解决方案 半导体晶片破碎与划伤外观检测案例 解决方案 联盟活动 28/01 CMVU华北区会员走访交流活动在京圆满落幕 CMVU华北区会员走访交流活动在京圆满落幕 2026年1月21日至23日,由机器视觉产业联盟(CMVU)主办的华北区会员走访交流活动在京成功举办。作为2026年度开篇之作,本次活动汇聚了40余家会员单位代表,通过深度走访英特尔、凌云光、中车、联想、平方和、识渊科技、星河泰视特等国内外领军企业及创新先锋,并结合专题论坛研讨,聚焦机器视觉技术在智能制造、汽车工业、新能源、智慧交通、半导体、精密测量等关键领域的创新应用与未来趋势,共同擘画产业协同与融合发展的崭新蓝图。 12-30 2025 由机器视觉产业联盟(CMVU)组织的华东区会员走访交流活动圆满举行 12-16 2025 日本横滨 ITE 2025 圆满收官 行业热点 Vision China 2026(北京)| 观众预登记启动!论坛议题抢先知 产品展示 分束棱镜 镜头 福建光旭科技有限公司 短波红外镜头 镜头 福建光旭科技有限公司 4K7u 线扫镜头 镜头 福建光旭科技有限公司 鑫云工业产线质检图像存储 系统产品 北京鑫云科技有限公司 直线步进式视觉检测设备 视觉系统 开异智能技术(上海)有限公司 玻璃转盘载台视觉检测设备 视觉系统 开异智能技术(上海)有限公司 VisionChina展会 行业标准 【团标征求意见】机器视觉产业联盟关于《用于光谱标定的激光维持等离子体光源光谱平坦度的测试方法》团体标准征求意见的通知 标准意见征集 【团标征求意见】机器视觉产业联盟关于《用于半导体晶圆缺陷检测的激光维持等离子体光源光斑大小测量方法》团体标准征求意见的通知 标准意见征集 《智能检测装备产业发展研究报告:机器视觉篇》暨机器视觉白皮书2024版 白皮书发布 关于《机器视觉系统 通用术语》团体标准正式发布的公告 标准发布 【团标征求意见】机器视觉产业联盟关于《机器视觉系统 通用术语》团体标准征求意见的通知 标准意见征集 供应求购 USB3.2 Gen1 对拷线方案 —— 沁恒 CH9339 半导体 机器视觉系统如何适应不同尺寸芯片的测量? 精工和光学 康耐德智能医药机器视觉都能检测哪些方面? 精工和光学 IT68051+IT6615:4K@60Hz HDMI+USB Over IP 网线延长方案|低延时 100 米无损传输 半导体 2026年国内高清音视频产业ITE代理商和方案商核心竞争能力深度解析 半导体 博图DVS相机,高速低延迟视觉感知首选 精工和光学 IT6520:USB‑C DP Alt Mode 到 MIPI 单芯片转换方案 半导体 巴斯勒 Basler acA720-290gm 工业相机 电子组装 视觉控制器 精工和光学 红外光源 精工和光学 镜头 精工和光学 镜头 规格型号 XMFA1620A 精工和光学 机器视觉展会 精工和光学 UR7e 机器人 行业报告 2025年中国机器视觉市场研究报告 报告显示:2024年,得益于电子信息、锂电等下游行业增速提升的有力带动,中国机器视觉市场销售额实现9.2%的稳健增长,增速较2023年提升0.6个百分点。电子信息、烟草、玻璃、锂电等行业的快速发展,以及印刷业的恢复增长、医药行业连续两年下降趋势的止步,都为机器视觉产品需求增长注入了新动力。 中国机器视觉网 | 2025-06-19 企业专访 本期人物 福建鑫图光电有限公司半导体业务总监 林静 Allied Vision首席执行官Robert Franz 苏州苏映视图像软件科技有限公司产品市场总监华雪 LMI Technologies首席商务官Len Chamberlain 苏州源控电子科技有限公司梁春明梁春明 专业书刊 第三十五期《机器视觉》杂志 出版发行:中国机器视觉网 编著:中国机器视觉网 会员价:免费 免费订购 往期 | 第三十四期《机器视觉》杂志 往期 | 第三十三期《机器视觉》杂志 培训认证 培训时间:3月份培训地点:深圳市龙华区/光明区 友情链接 中国工业报 国际金属加工网 ChinaIT 控制工程网 中自网 中国测控网 中国机器人网 中国工控网 中国自动化网 中华工控网 电子产品世界 西部工控网 传动网 国际工业自动化 中国智能化网 与非门电子社区 测控在线 EDNChina电子设计 中国工控传动网 QC检测仪器网 电气自动化网 中国电子工业网 我要仪器网 慧聪电子网 中国传感器网 元器件交易网 中国工业电器网 工控网(百站) 机电在线 仪众国际仪器仪表 全球IC采购网 21ic库存 电气工程及其自动化 变频器工作原理 more 网站首页| 关于我们| 联系我们| 设为首页 地址:北京海淀区中关村南街四紫金数码园1004房间 | 邮编:100190 Copyright © 2013 - 2021 www.china-vision.org All Rights Reserved Design by bygw.net 公众号 Vision机器视觉展 机器视觉产业联盟(CMVU) QQ 机器视觉产业联盟(CMVU) 010-62650592 010-62650592 visionchina@china-image.cn 机器视觉网 京ICP备16034613号-1 * 请登录会员后进行操作 会员登录 用户名 密码 忘记密码? 登录 新用户注册账号
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